什么叫真空镀膜

真空镀膜是一种在高真空条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于金属、半导体或绝缘体表面形成薄膜的方法。在真空条件下成膜有许多优点，例如可以减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中与其他分子的碰撞，降低气体中的活性分子与蒸发源材料间的化学反应，以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜成为杂质的量。这些优点有助于提高膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。